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设备名录

PLD沉积腔和控制系统

设备编号	2015260700	仪器负责人	李山东
中文名称	PLD沉积腔和控制系统	英文名称	Pulse Laser Deposition System
规格型号	PLD-400型	产地国别	中国
仪器安放地址	suncity太阳新城中心校区西院科技馆四层401
主要科学领域	薄膜生长
主要技术指标	真空度10-6Pa；样品加热最高温度800摄氏度；真空退火炉最高温度700摄氏度；内置四个靶材托可进行交替溅射；内置样品挡板可进行梯度溅射。
主要功能	与激光器结合生长薄膜。

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